Brtvljenje mehaničkog brušenja silva anodizirano
Srebrne linije sub mikrona oblikovane su primjenom kemijskog mehaničkog poliranja (CMP). Suhi suženi SiO2 rovovi su napunjeni s Ag pomoću raspršivanja prije uklanjanja višak Ag pomoću nekoliko CMP metoda. Tehnike uporabe kaše koja se usredotočuju na mehaničko poliranje imaju problem u postizanju ravnog uklanjanja metala. No, s uglavnom kemijskim poliranjem moguće je homogeno uklanjanje s odgovarajućim ugrađenim linijama. Termički robusne i glatke linije za metalizaciju Ag rezultat su takvog procesa.
